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一、项目背景

北京客户某半导体材料研发实验室，配置硅外延 CVD 系统、氯硅烷精馏取样装置、特气气瓶柜、通风橱，主要开展低温硅外延、高纯氯硅烷组分提纯、薄膜新材料研发实验，气源为电子级二氯二氢硅(SiH₂Cl₂，DCS)。二氯二氢硅属于自燃、剧毒特气，遇水汽快速水解生成氯化氢腐蚀性烟气，微量泄漏即可造成人员灼伤中毒、腐蚀 CVD 腔体、色谱质谱等精密设备，积聚后存在燃爆风险。实验室原有防护仅依靠通风橱，缺少定点泄漏监测、报警与联动处置手段，无法满足高校/科研院所实验室安全规范、特气管理以及职业卫生验收要求，因此需要采购一批专业型二氯二氢硅检测仪设备。

二、项目痛点

气体特性干扰大：二氯二氢硅极易水解，环境水汽、氯化氢副产物容易造成传感器误报、传感器腐蚀失效;

泄漏点位分散：气瓶阀、减压阀、VMB 气体分配面板、管路接头、CVD 腔体、通风橱取样口均存在微漏风险;二氯二氢硅蒸汽重于空气，容易在地面低洼位置积聚;

缺少分级预警联动：仅靠人工巡检，发现滞后，泄漏后无法自动切断气源、启动强排风;

合规留痕不足：缺少浓度数据存储、导出功能，安全检查、职业卫生评审无有效台账支撑;

场景差异化需求：固定区域需要24小时在线值守，检修、检漏、换瓶作业需要便携式设备定点扫测。

三、实验室气体检测设计方案

采用固定式二氯二氢硅检测仪、便携式气二氯二氢硅检测仪、报警控制主机组合方案，分区布点、泵吸式采样、两级报警、联动控制;传感器配套除水、除尘预处理模块，抑制水解产物氯化氢干扰，提升选择性，实现泄漏早预警、早处置，兼顾人员安全、设备防护、实验稳定运行与安全合规。

四、实验室二氯二氢硅检测仪点位布设方案

1.气瓶柜与特气储存区气瓶柜内部低位布置固定式检测仪，监测钢瓶阀门、减压阀泄漏;气瓶间低洼区域增设一台，24 小时持续监测。进入气瓶间更换钢瓶、检修前，使用便携式检测仪预先检测环境浓度。

2.VMB 气体分配面板与管路区域气体分配箱下方、管路转弯、法兰接头位置布设检测点，重点监测调压阀、隔膜阀微泄漏。

3.CVD 外延与薄膜沉积设备区每台 CVD 设备腔体进料端、维护门外侧、尾气排风位置布置采样点，实时监控腔体密封、气路后端泄漏。

4.通风橱、负压实验舱作业区通风橱内部靠底部位置安装采样探头，针对投料、取样、转样操作监测，同步监控通风橱排风失效时气体外溢风险。

5.分析取样操作台精馏取样口、色谱进样操作台布置检测点位，防止取样过程逸散气体腐蚀色谱柱与检测器。

6.安装说明：二氯二氢硅比空气重，探头采样口距离地面 0.3–0.6m;采用泵吸采样，配合前置过滤除水预处理组件。

五、系统配置清单

固定式二氯二氢硅检测仪(泵吸式)：本安防爆，检测量程 0–10ppm，两级报警，4-20mA、RS485 信号输出;

传感器预处理模块：除水、除雾、过滤组件，阻挡水汽、HCl 水解产物，降低干扰;

报警控制主机：集中显示所有点位浓度，声光报警，继电器输出联动;

便携式二氯二氢硅检测仪：泵吸探杆式，用于巡检、漏点定位、检修验收、进入受限区域前检测;

联动执行单元：电磁阀切断模块、强排风控制模块;

数据存储模块：自动记录浓度、报警时间，支持历史记录导出。